什么是物理氣相沉積 (PVD)？
在物理氣相沉積 (PVD) 中，金屬和合金從源蒸發(fā)，原子、離子或分子通過熱蒸發(fā)、濺射或電子束 (e-beam) 沉積到基材表面。技術(shù)的選擇取決于沉積材料的具體類型。
磁控濺射
- 在源和（加熱的）基板（通常是玻璃）之間使用電產(chǎn)生的等離子體。
-
適用于：
- 透明導(dǎo)電金屬氧化物：通常使用 InSnO 或 ITO
- 金、鉑、鈦、鉻等高熔點(diǎn)金屬
電子束蒸發(fā)
- 磁鐵加速強(qiáng)光束中的電子，用于加熱材料進(jìn)行蒸發(fā)。
- 在（加熱的）基材上獲得高純度的致密涂層。
- 用于沉積由于熱導(dǎo)率低而無法使用標(biāo)準(zhǔn)熱蒸發(fā)實(shí)現(xiàn)的材料。
熱蒸發(fā)
- 最常見、最簡單的沉積形式
- 需要高真空沉積條件（10E-5 mbar 及更高）
- 電阻加熱元件將電阻舟中的源材料加熱至沸點(diǎn)
- 蒸發(fā)的分子在基材上形成薄膜沉積（涂層）。
- 可用于各種基材上的幾乎所有無機(jī)涂層以及一些有機(jī)涂層
- 更環(huán)保
- 允許從高純度源材料進(jìn)行高純度沉積（由于高真空，污染很少）。
圣柏林為PVD ??提供哪些加熱解決方案？
圣柏林晶圓加熱器是磁控濺射的重要組成部分。我們還可以定制我們的基片加熱器（也稱為卡盤加熱器或樣品加熱器），以滿足特定的工藝要求。例如，在加熱卡盤中鑄造礦物絕緣加熱元件，用于 PVD ??表面。微型加熱器是另一種為 PVD ??定制的小型加熱解決方案。
事實(shí)上，圣柏林的優(yōu)勢在于提供極其精確、定制的解決方案，以滿足客戶在半導(dǎo)體行業(yè)的特定高端需求。對于此類項(xiàng)目，我們還與合作伙伴公司ARi的專家密切合作，后者為我們提供 MI 加熱器。
使用礦物絕緣加熱元件進(jìn)行 PVD ??有哪些優(yōu)勢？
- 溫度高達(dá) 1000°C
-
礦物絕緣確保加熱元件適合
- 適用于苛刻的環(huán)境（真空、惰性氣體）
- 耐化學(xué)性
- 優(yōu)異的介電耐久性
- 可提供定制護(hù)套材料以適應(yīng)任何環(huán)境
- 加熱器熱段和冷段之間的無縫過渡
- 熱段和冷段直徑相等
- 由于冷端可防止過熱，因此終止非常簡單
- 適合高功率密度
- 源、晶圓、目標(biāo)或基板的熱量分布均勻
- 較大的彎曲半徑使加熱元件適合復(fù)雜的彎曲應(yīng)用
- 關(guān)鍵工藝的精確加熱
- 更薄、更輕的設(shè)計(jì)是可能的。
- 快速升溫
- 密封加熱元件可防止污染
- 熱電偶可以包含在設(shè)計(jì)中
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